將新石墨舟及運用超越三年的舊石墨舟飽滿后進行PECVD表面的表層的鍍膜。新石墨舟表層平整度好，石墨舟片導電性一致，塑料膜分子式能夠均勻地堆積在單晶硅片表層，片間均勻性更高品質。
       新石墨舟飽滿后在堆積時仍有一部分等離子體在石墨舟上邊堆積，運行次數小于三十次時，隨著著運行次數的進步，石墨舟上邊堆積的等離子體下降，片間均勻性越佳。運行次數超出三十次后，隨著著運用次數的進步，石墨舟片內壁與單晶硅片碰觸邊際處塑料膜變厚，電場反而強勁，形成許多的低溫等離子體堆積，易出現不一樣水準的邊際發白情況，導致片間均勻性數次下降。